Семейство вакуумных установок BRV1000-R

Скачать описание

Семейство вакуумных установок BRV1000R предназначено для нанесения металлических, в том числе резистивных покрытий на различные элементы высокоскоростным магнетронным методом с возможностью ионной очистки, либо ионного ассистированя.

Вакуумная установка состоит из:

• вакуумной камеры из нержавеющей стали размером 1000×780 мм с двойной сплошной рубашкой охлаждения;
• двери вакуумной камеры из нержавеющей стали с двойной сплошной рубашкой охлаждения;
• иллюминатора из кварцевого стекла с заслонкой;
• пирометра/термопары;
• каркаса силового, сваренного из стальных труб прямоугольного сечения;
• защитно-декоративных панелей с блокирующими замками;
• технологической оснастки с системой сканирования подложек;
• системы нагрева на основе ТЭНов из нержавеющей стали;
• системы откачки, включающей в себя форвакуумный, байпасный и аварийный клапана;
• стойки управления и питания;
• поддона с выдвижной клавиатурой;
• гидро- пневмосистемы;
• пяти магнетронов, из которых четыре могут работать как несбалансированные;
• датчиков низковакуумных;
• клапана напуска воздуха в камеру;
• датчика высоковакуумного магниторазрядного;
• датчика средневакуумного ионизационного;
• затвора высоковакуумного шиберного типа с пневмоприводом;
• турбомолекулярного насоса на магнитном подвесе;
• источника бесперебойного питания для турбомолекулярного насоса системы управления (поз. 22);
• 17-дюймового тактильно-чувствительного монитора;
• агрегата форвакуумного «сухого»;
• высокоэнергетичного ионного источника типа УАС для ионной очистки, ассистирования;
• блока питания ионного источника;
• блоков питания магнетронов;
• расходомеров;
• блока управления расходомерами;
• кварцевого контроля толщины (отдельная опция);
• контроля сопротивления по свидетелю (отдельная опция);
• встроенного компрессора (отдельная опция).

Более подробно ознакомиться с вакуумной установкой типа BRV1000-R вы можете,скачав ее описание по ссылке выше

Технические характеристики

Неравномерность нанесения покрытий по вертикали не более	5%.
скорость нанесения меди	не менее 2 мкм/мин. (с использованием 4-х несбалансированных магнетронов);
скорость нанесения ванадия/тантала не менее	0,1 мкм/мин. (с использованием одного несбалансированного магнетрона);
возможность нанесения покрытий на одну, либо обе стороны подложек в	одном цикле;
плотность ионного тока ионного источника –	не менее 5 мА/см2;
количество подложек размером 60х48х1 (0,5; 1) мм –	не менее 288 шт. при скорости нанесения меди 0,5 мкм/мин.
Средний уровень шума, дБа, не более:	75.
Установленный срок службы до капитального ремонта при двухсменной работе при соблюдении правил эксплуатации, лет, не менее:	8.
Мощность, потребляемая вакуумной установкой, кВт, не более	110.
Общая площадь, занимаемая вакуумной установкой без учета форвакуумного агрегата и зоны технологического обслуживания, м2,	не более: 10.
Габариты вакуумной установки, мм, ДхШхВ, не более:	2834х11364х2280
Масса вакуумной установки без учета форвакуумного агрегата и чиллера, кг, не более:	1520.